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摘 要:氣膜冷卻是渦輪葉片的一種重要冷卻手段。為了研究渦輪葉片的間隙泄漏對氣膜冷卻的影響機(jī)制與規(guī)律,采用GE-E3高壓渦輪葉片開展PIV光學(xué)試驗(yàn)測量和非定常數(shù)值計(jì)算研究。分析不同氣膜孔位置、雷諾數(shù)、吹風(fēng)比等主要參數(shù)對氣膜冷卻流動(dòng)的影響規(guī)律,發(fā)現(xiàn)間隙泄漏流干涉下不同位置氣膜孔射流的流場效果差別較大;主流雷諾數(shù)在一定范圍內(nèi)對氣膜孔射流的影響較?。淮碉L(fēng)比的變化顯著改變了氣膜孔射流的橫向發(fā)展和葉頂氣膜孔射流的強(qiáng)度,使吸力側(cè)泄漏渦存在遠(yuǎn)離葉片表面的趨勢,同時(shí)一定程度上抑制了壓力側(cè)的泄漏流發(fā)展。(剩余6226字)
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渦輪葉片間隙泄漏流干涉下氣膜冷卻的流動(dòng)試驗(yàn)及數(shù)值模擬
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