離子源對透鏡防藍光鍍膜工藝的影響

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摘 要：此項研究基于物理氣相沉積下的真空鍍膜技術，可以有效實現(xiàn)防藍光鏡片鍍膜工藝，采用高低折射率鍍膜材料的搭配，在光譜分析測試設備中，有害藍光波段（即可見光波長位于380～450nm）處，達到90%及以上反射的高反狀態(tài)。改變真空室內(nèi)離子源的使用條件，進而取得更好的防藍光效果。研究表明，在開啟霍爾離子源輔助，且電子束流在8A的情況下，可以增加防藍光薄膜層的附著力和穩(wěn)定性，薄膜的性質(zhì)與輔助離子源和起始薄膜材料緊密相連。（剩余5513字）