中頻磁控濺射沉積金屬薄膜技術(shù)的研究進(jìn)展

摘要 ：中頻磁控濺射沉積金屬薄膜是真空鍍膜技術(shù)中最常用的技術(shù)之一，目前在科學(xué)研究及工業(yè)生產(chǎn)中都得到了長(zhǎng)足發(fā)展。但是在沉積金屬薄膜過(guò)程中的工藝參數(shù)如中頻電流、脈沖負(fù)偏壓、沉積時(shí)間等對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)及性能的影響多分散于不同的文獻(xiàn)中，不利于對(duì)這些參數(shù)的認(rèn)識(shí)與深入理解。本文綜述了中頻磁控濺射沉積金屬薄膜中工藝參數(shù)的作用，通過(guò)對(duì)沉積薄膜過(guò)程中工藝參數(shù)的總結(jié)，可加深這些參數(shù)對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)及性能影響規(guī)律的理解，促進(jìn)真空鍍膜技術(shù)的工藝開(kāi)發(fā)及技術(shù)進(jìn)步。（剩余5554字）