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非晶硅TFT強(qiáng)光穩(wěn)定性的研究及改善

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摘  要:隨著顯示產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,大尺寸、寬色域、高動(dòng)態(tài)范圍(HDR)和高亮度給薄膜晶體管(TFT)面板帶來(lái)了更大的挑戰(zhàn)。經(jīng)過(guò)測(cè)試,在40 000 nit高亮度背光照明下,經(jīng)過(guò)500小時(shí)照明,面板的充電能力衰減幅度高達(dá)13%。其機(jī)理與TFT結(jié)構(gòu)密切相關(guān),如柵極的功函數(shù)和柵極絕緣層(GI)的光學(xué)帶隙(Eg)。(剩余6939字)

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