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基于流形學(xué)習(xí)與稀疏描述方法的輻射源個(gè)體指紋識(shí)別技術(shù)

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摘  要:在功放非線性模型基礎(chǔ)上,從信號(hào)雙譜中提取個(gè)體指紋特征,借助流形學(xué)習(xí)中的二維監(jiān)督判決保局投影算法,降低指紋特征維度。進(jìn)而以歐氏距離和描述誤差作為稀疏準(zhǔn)則,提出2種匹配分類算法,即K近鄰稀疏描述法和K近鄰特征空間法,對(duì)降維指紋進(jìn)行識(shí)別分類。通過(guò)仿真驗(yàn)證流形學(xué)習(xí)和稀疏描述在個(gè)體指紋識(shí)別中的有效性。(剩余8631字)

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