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摘 要:通過使用專利地圖分析方法,研究信息安全設(shè)備制造領(lǐng)域的發(fā)展趨勢。從專利申請趨勢、技術(shù)生命周期、首次申請、同族申請、申請人、發(fā)明人和技術(shù)構(gòu)成分析7個方面,對信息安全設(shè)備制造領(lǐng)域發(fā)展情況進(jìn)行分析。在信息安全設(shè)備制造領(lǐng)域,中國的技術(shù)發(fā)展與全球技術(shù)發(fā)展趨勢一致;技術(shù)發(fā)展水平處在快速成長階段;中國研發(fā)水平較強(qiáng),美國、韓國和日本緊隨其后;目標(biāo)市場主要在中國,其次為美國、歐洲、日本、韓國、加拿大和澳大利亞;中國申請人創(chuàng)新技術(shù)較強(qiáng),創(chuàng)新主體主要是企業(yè),但不同企業(yè)的創(chuàng)新質(zhì)量水平差別較大;來自企業(yè)的發(fā)明人的專利申請質(zhì)量較高;除G06F和H05K之外,H04L、G06Q和G06K也是此領(lǐng)域的技術(shù)熱點(diǎn)之一。(剩余5865字)
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