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高溫環(huán)境下具有高激光損傷閾值的SiO2薄膜研究

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摘要:二氧化硅作為最常用的低折射材料,兼具優(yōu)良的耐熱性,具有用于極端環(huán)境下高功率激光系統(tǒng)的潛力。試驗(yàn)采用溶膠-凝膠法,以正硅酸乙酯為前驅(qū)體,聚乙二醇為添加劑,制備二氧化硅薄膜。該方法制備的膠體具有良好的穩(wěn)定性,內(nèi)部結(jié)構(gòu)分布均勻。薄膜具有高透過(guò)率,表面平整,在高溫處理后仍然具有較小的表面粗糙度和低缺陷密度。(剩余13875字)

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