鋁薄膜的制備及其性能研究

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摘  要：采用直流磁控濺射法沉積鋁薄膜，利用掃描電子顯微鏡（SEM）、四探針電阻測(cè)試儀和紅外發(fā)射率測(cè)試儀對(duì)其形貌和性能進(jìn)行表征，研究濺射功率（70、90、110、130 W）對(duì)鋁薄膜的沉積速率、表面形貌、電學(xué)性能和紅外發(fā)射率的影響規(guī)律。結(jié)果表明，隨濺射功率的增大，鋁薄膜的沉積速率逐漸增大，表面晶粒尺寸逐漸增大；鋁薄膜的電阻率先降低后升高，其紅外發(fā)射率呈現(xiàn)相同趨勢(shì)。（剩余6415字）