創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)略下高?？萍汲晒D(zhuǎn)化機(jī)制研究

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中圖分類號(hào)：G644 文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A

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創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略背景下，高?？萍汲晒D(zhuǎn)化是支撐我國(guó)發(fā)展成為創(chuàng)新型強(qiáng)國(guó)的重要路徑。但《2023年中國(guó)專利調(diào)查報(bào)告》顯示，我國(guó)高校發(fā)明專利產(chǎn)業(yè)化率僅為 3.9% ，與企業(yè)的產(chǎn)業(yè)化率 51.3% 對(duì)比，存在顯著差距[1]。2024 年，企業(yè)的發(fā)明專利產(chǎn)業(yè)化率保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)，上升至 53.3% ，但高校領(lǐng)域仍面臨產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程緩慢的困境[2]。（剩余7223字）