2</sub>/ SiN<sub>x</sub> 疊層薄膜的厚度及工藝條件可以增強其對硅片的鈍化及光陷作用,因此涉及到薄膜的厚度與其他光學(xué)參數(shù)的測量和表征問題。首先針對晶硅太陽電池表面減反射膜的材料、制備技術(shù)和性能測試進行了介紹;然后針對減反射膜的光學(xué)參數(shù)測試,介紹了1種適用于生產(chǎn)線全檢的在線橢偏儀,并通過實驗對該在線橢偏儀與常用離線橢偏儀的測試性能進行了對比。研究結(jié)果表明:1)該在線橢偏儀采用非接觸測量,可實現(xiàn)晶硅太陽電池的“零”損耗;可實現(xiàn)生產(chǎn)線全檢,剔除異常晶硅太陽電池,降低成本,提高整線質(zhì)量;降低人工抽測成本和碎片風險;在生產(chǎn)線工藝調(diào)整時,可提供實時監(jiān)控數(shù)據(jù);匹配制造執(zhí)行系統(tǒng)(MES),可實現(xiàn)數(shù)據(jù)的工藝追,有利于快速分析問題。2)小批量晶硅太陽電池的 SiN<sub>x</sub> 減反射膜厚度對比測試和折射率對比測試的結(jié)果均顯示,該在線橢偏儀與離線激光橢偏儀的測試結(jié)果基本一致,且已得到太陽電池生產(chǎn)廠家的認可。3)經(jīng)過量產(chǎn)應(yīng)用驗證,證明了該在線橢偏儀可為提升晶硅太陽電池生產(chǎn)線的良率提供有效幫助。-龍源期刊網(wǎng)" />