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摘 要:由于無(wú)法對(duì)大型還原爐環(huán)狀硅棒排布方式對(duì)能耗的影響做出準(zhǔn)確判斷,對(duì)42對(duì)棒西門(mén)子多晶硅還原爐進(jìn)行仿真模擬計(jì)算,建立兩種環(huán)狀硅棒布棒方式(三環(huán)排布、四環(huán)排布)的還原爐模型。通過(guò)對(duì)還原爐的爐行為及棒行為分析發(fā)現(xiàn),硅棒直徑加大能耗也會(huì)相應(yīng)加大,且這種變化受爐內(nèi)流場(chǎng)和溫度場(chǎng)共同影響;同時(shí),還原爐內(nèi)內(nèi)環(huán)硅棒輻射能耗隨硅棒直徑的增大呈先增大后減小的變化趨勢(shì),而排列在外環(huán)的硅棒輻射損耗則隨硅棒直徑的增大而不斷增大。(剩余10292字)
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42對(duì)棒環(huán)形布棒還原爐能量耗散研究
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