2</sub> 的表面粗糙度進(jìn)行了 0～4min 不同時(shí)長(zhǎng)的紫外臭氧處理。當(dāng)處理時(shí)長(zhǎng)為 2min 時(shí)， WS<sub>2</sub> 的表面粗糙度 (S<sub>a</sub>) 達(dá)到最大值，約為 14nm ，這種現(xiàn)象主要?dú)w因于紫外臭氧對(duì) WS<sub>2</sub> 表面的氧化形成了非晶態(tài)的 WO<sub>x</sub> 。隨著處理時(shí)長(zhǎng)延長(zhǎng)，多層 WS<sub>2</sub> 下層的新鮮 WS<sub>2</sub> 暴露，氧化效應(yīng)得到緩解。實(shí)驗(yàn)表明，經(jīng) 2min 紫外臭氧處理后的 WS<sub>2</sub>/Pt 肖特基結(jié)在 400～900nm 范圍內(nèi)展現(xiàn)出優(yōu)異的光響應(yīng)性能，特別是在近紅外波段 750nm 處，其響應(yīng)度高達(dá) 18A/W ，相比未處理的WS<sub>2</sub>/Pt 肖特基結(jié)的響應(yīng)度提高了約 60% ，這主要?dú)w因于紫外臭氧處理使得 WS<sub>2</sub>/Pt 肖特基結(jié)中WS<sub>2</sub> 表面粗糙化，粗糙度的增加增強(qiáng)了光激發(fā)而產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)的分離，同時(shí)還增加了從Pt 到 WS<sub>2</sub> 的熱電子注入。-龍?jiān)雌诳W(wǎng)" />

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表面粗糙度對(duì) WS2/Pt 肖特基結(jié)光響應(yīng)性能的影響

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文章編號(hào)：1006-3080（2025）03-0428-09

中圖分類號(hào)：TN364

文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A

近年來(lái)，等離子體激元-金屬-半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)構(gòu)引起了研究人員廣泛的興趣，這種結(jié)構(gòu)可以高效地進(jìn)行光電檢測(cè)和化學(xué)反應(yīng)[1-13]。到目前為止，研究人員已發(fā)現(xiàn)貴金屬納米粒子和具有合適界面的半導(dǎo)體集成能夠顯著增強(qiáng)光吸收及光生電子-空穴對(duì)的分離[14]，如2007年Tian等[15]報(bào)道了硅太陽(yáng)能電池和聚合物中的同質(zhì)結(jié)和異質(zhì)結(jié)。（剩余14669字）

試讀結(jié)束

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