a</sub> 和材料去除率的影響規(guī)律；通過觀察外加磁場下MCF拋光前后的形貌特征,探究改質(zhì)渣對MCF拋光液磁簇成型的影響;通過測量不同拋光液的拋光作用力，分析MCF形貌與拋光作用力的內(nèi)在聯(lián)系。最后，通過觀察含有改質(zhì)渣的MCF拋光簇的微觀形貌特征，結(jié)合MCF形貌、拋光力特征構(gòu)建含改質(zhì)渣的MCF拋光液的拋光機理。實驗結(jié)果表明：改質(zhì)渣的飽和磁化強度是鎳渣的5.64倍;隨著改質(zhì)渣的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加，MCF拋光性能下降；在改質(zhì)渣含量為 10% 時，MCF拋光 10min 后，工件表面粗糙度從 0.502μm 降低至 0.010μm ，表面粗糙度下降率 R<sub>a</sub> 達到 97.966% ；相較于使用無改質(zhì)渣的MCF拋光后的表面粗糙度下降率僅下降了 0.482% ；對比使用改質(zhì)渣含量為15% 的MCF拋光后的下降率則高出 3.603% ；材料去除率達到 1.237×10<sup>8</sup>μm<sup>3</sup>/min ;隨著改質(zhì)渣含量的增加，拋光時磁性顆粒形成的鏈狀結(jié)構(gòu)曲度增加，拋光力下降，進而影響其拋光性能;結(jié)合拋光性能，剪切力，磁簇的微觀結(jié)構(gòu)，提出了含改質(zhì)渣的MCF的拋光機理。鎳渣改質(zhì)后可應(yīng)用于MCF拋光,當(dāng)MCF拋光液中改質(zhì)渣質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于 10% 時，拋光性能優(yōu)異。-龍源期刊網(wǎng)" />

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鎳渣改質(zhì)及其在磁性復(fù)合流體拋光中的應(yīng)用

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Abstract： To enhance the reusability of nickel slag，a novel approach is proposed to modify nickel slag and utilize it in the precision polishing of ma（剩余17619字）

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