新型耐蝕銅合金濺射靶材的電化學(xué)行為研究

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摘      要：隨著磁控濺射技術(shù)被廣泛應(yīng)用于工業(yè)化生產(chǎn)，靶材的研究和開發(fā)受到了國(guó)內(nèi)金屬行業(yè)的極大重視。傳統(tǒng)的金銀等貴金屬靶材性能難以滿足濺射技術(shù)要求，且難回收、成本高。本研究介紹的耐蝕銅合金靶材是一種可應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)中的合金靶材，經(jīng)該靶材濺射制造的薄膜具有抗菌性能優(yōu)良、生物相容性好、成本低廉、無(wú)毒、耐蝕等優(yōu)點(diǎn)，具有一定的實(shí)用價(jià)值，有望替代傳統(tǒng)的貴金屬以及化合物靶材。（剩余7331字）