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專利申請?zhí)枺?022113995563
公布號：CN115740452A
申請日：2022.11.09公開日：2023.03.07
申請人：有研億金新材料（山東）有限公司；有研億金新材料有限公司
本發(fā)明屬于磁控濺射靶材制造技術領域，公開了一種高純高致密細晶低氧鎢靶材的制備方法。以純度大于SN的W粉為原料，先通過真空熱壓燒結的方式獲得相對密度為800/～900/的預成型鎢靶坯。（剩余168字）
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一種高純高致密細晶低氧鎢靶材的制備方法
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