磁流變拋光流場對光學元件凹面的壓力形成機制研究

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摘 要：壓力場的大小受到光學元件的凹面形狀及面積大小的影響。為了研究凹面的壓力場形成，首先建立拋光的光學元件模型，對凹面的壓力進行計算分析；其次通過改變光學元件凹面的曲率半徑大小、改變拋光輪的轉(zhuǎn)速、改變相同曲率半徑的光學元件浸入磁流變液中的角度，進行凹面壓力計算。分析發(fā)現(xiàn)，曲率半徑對凹面的壓力影響不大，不同曲率半徑的凹面在磁流變拋光流場中的壓力分布類型相似；凹面的壓力變化趨勢先平緩減小，然后迅速減小，最后趨于平緩。（剩余9027字）