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基于MRI圖像后處理技術(shù)的雙重病理致顳葉癲癇患者腦區(qū)結(jié)構(gòu)特征分析

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［摘要］ 目的

基于磁共振成像（MRI）后處理技術(shù)，對雙重病理（DP）致耐藥性顳葉癲癇（TLE）患者腦區(qū)結(jié)構(gòu)變化特征進(jìn)行自動精細(xì)腦分割及腦區(qū)數(shù)據(jù)定量分析。

方法 選擇2017年1月—2023年12月我院DP致TLE患者35例設(shè)為TLE-DP組，并選擇同期32例健康成年人為對照組。（剩余11916字）

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