氫化膜對鈦表面電鍍鍍層結(jié)合的影響

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摘要：通過掃描電子顯微鏡（scanning electron microscope，SEM）、X 射線衍射儀（X-raydiffractometer，XRD）、能譜儀（energy dispersive spectrometer，EDS）研究了氫化膜對鈦表面電鍍鍍層結(jié)合的影響。試驗結(jié)果表明：鈦經(jīng)過HCl 和H2SO4 混合溶液的氫化處理，一方面可以實現(xiàn)鈦基體上電鍍鎳銅，提高鍍層結(jié)合強(qiáng)度，鍍層結(jié)合強(qiáng)度最大值為9.6 MPa；但另一方面氫化形成蜂窩狀多孔的氫化膜會限制鍍層結(jié)合強(qiáng)度。（剩余4633字）