2.1</sub> YHf高熵合金涂層,研究了不同激光熔覆工藝下高熵涂層微觀組織與成分演變,及其在 1150<sup>q</sup>C 時(shí)抗高溫氧化機(jī)理.分別采用X射線衍射儀、掃描電子顯微鏡及透射電子顯微鏡對制備得到的2種涂層進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)、微觀組織及元素組成表征,隨后將試樣置于在 1150<sup>°</sup>C 下進(jìn)行 <sup>100h</sup> 恒溫氧化,期間記錄不同時(shí)間點(diǎn)涂層重量增加情況并對截面微觀組織及成分進(jìn)行表征.試驗(yàn)結(jié)果表明,2種涂層均由FCC相組成,普通熔覆涂層存在明顯的Nb,Y和Hf元素偏析,高速熔覆涂層組織結(jié)構(gòu)更加細(xì)密均勻.氧化 100h 后2類熔覆涂層氧化增重分別為1.76與 0.91mg/cm<sup>2</sup> ,氧化膜增厚分別為7.568與 3.535μm .此外,高速熔覆涂層擁有更加平直且完整的氧化膜及極少量的尖晶石生成,表現(xiàn)出優(yōu)異的抗高溫氧化性能,-龍?jiān)雌诳W(wǎng)" />