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摘 要：為探究Ce轉(zhuǎn)化膜的耐蝕性能，通過(guò)添加四硼酸鈉，腐蝕電位正移0.2 V，轉(zhuǎn)化膜的阻抗弧半徑達(dá)到了 9 000 Ω·cm2，通過(guò)激光共聚焦圖和SEM圖可見，膜層的裂紋減少，較傳統(tǒng)的Ce轉(zhuǎn)化膜耐蝕性有提高。結(jié)果表明：四硼酸鈉作為添加劑可以起到提高耐蝕性的作用。（剩余4504字）
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鎂合金稀土Ce轉(zhuǎn)化膜的制備及耐蝕性能優(yōu)化
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